半导体工业含氟废水的处理方法

　　含氟的工业废水主要源于铝的冶炼、磷矿石加工、磷肥生产、钢铁冶炼和煤炭等半导体燃烧过程的排放物，氟是积累牲毒物，当含氟废水的工业废水排放于自然界时植物和动物受到一定的影响，下面介绍一下关于半导体工业含氟废水的处理方法具体都有哪些。

　　目前市场上常用的半导体工业含氟废水处理方法有离子交换、吸附法、膜分离以及沉淀法：

　　离子交换：通过阴离子交换树脂进行离子交换以达到除氟的目的;

　　吸附法：吸附需要用到独特的处理剂和设定特殊机器设备，用羟基磷灰石活性氧化镁稀土金属氧化物等新型吸附剂可提升处理实际效果，适用于水流量较小的生活用水深层处理;

　　膜分离：是指利用膜的选择作用，在外界能量的作用下，将污水中的溶质和溶剂分离出来，主要优势在于效率高、工艺简单、环保、能耗低;

　　沉淀法：当半导体含氟废水的氟离子原始浓度值在1000～3000mg/L之间时，用石灰粉法处理后的最后浓度值达到20～30mg/L。

　　温馨提示：在处理期间会因为泥渣沉速慢，适当的加入一些氯化钙或其他絮凝剂时可以加快悬浮物的沉淀速度，同时pH需要维持在一个比较高的高度来减少氟离子浓度值，选用磷酸盐、镁盐、铝盐等，比单纯性用钙盐除氟效果明显。

　　以上是小编整理的关于半导体工业含氟废水的处理方法，因不同的工业所含成分、水量以及浓度不同，具体方案还需具体分析。